近場光學(xué)顯微鏡是根據(jù)非輻射場的探測與成像原理，能夠突破普通光學(xué)顯微鏡所受到的衍射極限，采用亞波長尺度的探針在距離樣品表面幾個(gè)納米的近場范圍進(jìn)行掃描成像的技術(shù)，在近場觀測范圍內(nèi)，在樣品上進(jìn)行掃描而同時(shí)得到分辨率高于衍射極限的形貌像和光學(xué)像的顯微鏡。

　　光學(xué)顯微鏡適用于超高光學(xué)分辨率下進(jìn)行納米尺度光學(xué)成像與納米尺度光譜研究。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的分辨率受到光學(xué)衍射極限影響，分辨率不超過該波長尺度范圍。與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡不同的是，近場光學(xué)顯微鏡利用亞波長尺度探針，可以得到更小分辨率。

　　原理：使用由熔拉或腐蝕光纖波導(dǎo)所制成之探針，在外表鍍上金屬薄膜已形成末端具有15nm至100nm直徑尺寸之光學(xué)孔徑的近場光學(xué)探針，再以可作精密位移與掃描探測之壓電陶瓷材料配合原子力顯微技術(shù)所提供精確的高度回饋控制，將近場光學(xué)探針非常精確地(垂直與水平于樣品表面的方向之空間解析度可分別達(dá)到控制在被測樣品表面上1nm至100nm的高度，進(jìn)行三維空間可回饋控制的近場掃描。

　　光學(xué)顯微鏡突破傳統(tǒng)光學(xué)繞射限制，可直接利用光來觀察奈米材料，分析奈米元件顯微結(jié)構(gòu)及缺陷，近年來已應(yīng)用在分析半導(dǎo)體雷射元件上。因其具有高解析度，可應(yīng)用于高密度資料存取，還可應(yīng)用于生物分子及蛋白質(zhì)熒光光近場顯微分析。

　　一般光學(xué)顯微鏡于遠(yuǎn)場觀測時(shí)，因受到光波的繞射限制，其解析度僅有數(shù)百納米左右。但若在近場觀測時(shí)，可避免繞射及干涉的產(chǎn)生，能克服繞射限制，將解析度提升至數(shù)十納米左右。